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    探討真空鍍膜設備主要有兩類

    2022-01-21 15:07:56

    真空鍍膜設備主要有兩種

    真空鍍膜設備有很多種,如蒸發鍍膜和濺射鍍膜,包括真空蒸發、磁控濺射、分子束外延、溶膠-凝膠法等。

    真空鍍膜機

    1、 對于蒸發涂層:

    通常,加熱靶材使表面組分以原子團簇或離子的形式蒸發,然后通過成膜過程(散射島結構-迷走神經結構層生長)沉積在襯底表面形成薄膜。

    厚度均勻性主要取決于:

    1、襯底與靶材的晶格匹配度

    2、基板表面溫度

    3、蒸發功率,速率

    4、真空度

    5、涂層時間和厚度。

    成分均勻性:

    蒸發涂層的成分均勻性不易保證。具體調整因素同上。但由于原理上的限制,非單組分蒸發涂料的組分均勻性較差。

    晶體取向的均勻性如下

    1、晶格匹配度

    2、基板溫度

    3、蒸發率

    4、 濺射鍍膜可以簡單理解為用電子或高能激光轟擊靶材,以原子團簇或離子的形式濺射表面組分,最后沉積在基底表面。

    濺射涂層可分為許多種。一般來說,濺射鍍膜和蒸發鍍膜的區別在于濺射速率將成為主要參數之一。

    激光濺射PLD的成分均勻性容易保持,但原子尺度的厚度均勻性相對較差(因為是脈沖濺射),晶體取向(外緣)生長的控制相對一般。帶PLD

    例如,主要影響因素有:靶材與襯底的晶格匹配程度、涂層氣氛(低壓氣體氣氛)、襯底溫度、激光功率、脈沖頻率、濺射時間等。對于不同的濺射材料和襯底

    參數需要通過實驗來確定,這是不同的。涂裝設備的質量主要取決于溫度是否能得到精 確控制,是否能保證良好的真空度,是否能保證良好的真空腔清潔度



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