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    影響濺射鍍膜機制膜層質量的主要參數

    2022-10-12 17:40:59

       濺射鍍膜機,顧名思義是采用的磁控鍍膜技術鍍制膜層,磁控濺射分直流磁控濺射、中頻磁控濺射、射頻磁控濺射幾種,鍍制膜層材料不同,采用的技術不一樣,那么膜層的附著力以及膜層結構致密性,由哪些因素影響呢?


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    一.濺射鍍膜機濺射閾值:

    將靶材原子濺射出來所需的入射離子最小能量值。與入射離子的種類關系不大、與靶材有關。在能離子量超過濺射閾值后,隨著離子能量的增加,在150ev以前,濺射產額和離子能量的平方成正比;在150ev~1kev范圍內,濺射產額和離子能量成正比;在1kev~10kev范圍內,濺射產額變化不顯著;能量再增加,濺射產額卻顯示出下降的趨勢。以下是幾種金屬用不同入射離子轟擊的濺射閾值。


    二.濺射鍍膜機濺射產額:

    入射離子轟擊靶材時,平均每個正離子能從靶材打出的原子數。影響因素主要有以下幾方面:


    1.濺射產額隨靶材原子序數的變化表現出某種周期性,隨靶材原子d殼層電子填滿程度的增加,濺射產額變大(大致的變化趨勢)。


    2.入射離子種類對濺射產額的影響

    濺射產額隨入射原子序數增加而周期性增加。

    相應于45Kev的各種入射離子,銀、銅、鉭的濺射產額


    3.離子入射角度對濺射產額的影響

    對相同的靶材和入射離子,濺射產額隨離子入射角增大而增大,當角度增大到70?~80 ?時,濺射產額大。繼續增大入射角,濺射產額急劇減小,90?時濺射產額為零。


    4.靶材溫度對濺射產額的影響


    一般來說,在可以認為濺射產額同升華能密切相關的某一溫度范圍內,濺射產額幾乎不隨溫度的變化而變化。當溫度超過這一范圍時,濺射產額有急劇增加的傾向。


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