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    鍍膜前真空鍍膜機的清洗

    2023-05-16 15:53:57

    在材料被真空鍍膜機涂覆之前,需要對其進行清潔,即當前的真空清潔工藝。真空鍍膜機的真空清潔通常被定義為在真空處理之前從工件或系統材料的表面去除不需要的物質的過程。真空部件的表面清潔處理是必要的,因為污染物引起的氣體和蒸汽源會阻止真空系統達到所需的真空度。此外,污染物的存在也會影響真空部件連接的強度和密封性能。

    1、 真空加熱清洗

    將工件置于常壓或真空下加熱。促進其表面揮發性雜質的蒸發以達到清潔的目的,這種方法的清潔效果與工件的環境壓力、在真空中的停留時間長短、加熱溫度、污染物的類型以及工件的材料有關。其原理是加熱工件。增強水分子和吸附在其表面的各種碳氫化合物分子的解吸。解吸增強的程度與溫度有關。為了在超高真空下獲得原子級清潔表面,加熱溫度必須高于450攝氏度。加熱清潔方法特別有效。但有時,這種治療方法也會產生副作用。由于加熱過程,某些碳氫化合物可能會聚集成更大的顆粒,同時分解成碳渣

    2、 紫外線照射清洗

    利用紫外線輻射分解表面的碳氫化合物。例如,暴露在空氣中15小時可以產生干凈的玻璃表面。如果將經過適當預清潔的表面置于產生臭氧的紫外線源中。清潔的表面(過程清潔)可以在幾分鐘內形成。這表明臭氧的存在提高了清潔率。清潔機制是在紫外線輻射下,污垢分子受到刺激并離解,而臭氧的產生和存在會產生高活性的原子氧。被激發的污垢分子和污垢離解產生的自由基與原子氧相互作用。形成更簡單、更易揮發的分子。例如,H203、CO2和N2。反應速率隨著溫度的升高而增加。

    3、 放電清潔

    這種清潔方法廣泛用于高真空和超高真空系統的清潔和脫氣。特別是在真空鍍膜機中。使用熱線或電極作為電子源。相對于待清潔的表面施加負偏置電壓可以實現離子轟擊氣體解吸和某些碳氫化合物的去除。清潔效果取決于電極材料、幾何形狀及其與表面的關系。它取決于每單位表面積的離子數量和離子能量。這取決于有效的電力。用惰性氣體(通常為Ar氣體)的適當分壓填充真空室。清潔可以通過利用由兩個適當電極之間的低電壓輝光放電產生的離子轟擊來實現。在這種方法中。惰性氣體被電離并轟擊在真空室的壁、真空室中的其他結構部件和涂層基底上,這可以防止某些真空系統在高溫下被烘烤。如果將氧氣添加到填充的氣體中,可以對某些碳氫化合物實現更好的清潔效果。因為氧氣可以氧化某些碳氫化合物產生揮發性氣體,所以很容易被真空系統消除。不銹鋼高真空和超高真空容器表面雜質的主要成分是碳和碳氫化合物。一般來說,其中的碳不能單獨揮發?;瘜W清潔后,需要引入Ar或Ar+O2氣體的混合物進行輝光放電清潔,以去除由于化學反應而結合到表面的雜質和氣體。在輝光放電清潔中。最重要的參數是施加電壓的類型(AC或DC)、放電電壓大小、電流密度、填充氣體的類型和壓力。轟炸的持續時間。電極的形狀以及待清潔部件的材料和位置。

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