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    電鍍設備廠家:電鍍設備的基本原理是什么?

    2023-08-16 16:47:16

    電鍍是一個電化學過程,也是一個氧化還原過程。電鍍的基本過程是將零件浸泡在金屬鹽溶液中作為陰極,金屬板作為陽極。連接直流電源后,在零件上沉積所需的涂層。

    例如,鍍鎳時,陰極是待鍍的部分,陽極是純鎳板,陽極和陰極的反應如下:

    陰極(電鍍):Ni2++2e→Ni(主反應)

    2 h + + 2 e→H2↑(副作用)

    陽極(鎳板):Ni-2e→Ni2+(主反應)

    4哦,4 e→2水+ O2 + 4 e(副作用)

    不是所有的金屬離子都能在水溶液中沉積。如果氫離子作為副反應在陰極中還原為氫,則金屬離子很難在陰極中析出。通過實驗,可以從元素周期表中得出一定的規律,如表1.1所示。

    陽極分為可溶性陽極和不可溶性陽極。大多數陽極對應于涂層可溶性陽極,如鍍鋅陽極、銀陽極、錫鉛合金和錫鉛合金。但少數電鍍由于陽極溶解困難,采用不溶性陽極,如酸性鍍金主要采用鉑或鈦陽極。通過添加標準的含金溶液來補充浴液中的主要鹽離子。鍍鉻陽極有純鉛、鉛錫合金、鉛銻合金等不溶性陽極。

    電鍍設備技術,又稱電沉積技術,是在材料表面獲得金屬鍍層的主要方法之一。在直流電場的作用下,電解與陰極在電解質溶液(鍍液)中形成電路,使溶液中的金屬離子沉積在陰極鍍層表面;電流效率:用于沉積金屬的電占總電的比例稱為電鍍電流效率。

    分散能力:電解槽的分散能力是指在一定的電解條件下,使沉積金屬均勻分布的能力。

    合金電鍍:將兩個或兩個以上的金屬離子形成均勻而精細的鍍層的工藝稱為合金電鍍(一般其z -小分量應大于1%)。

    平整度:平整度(即微分散)是指在金屬表面形成涂層時,涂層的微輪廓比基材表面光滑。表明母材粗糙度相對較小,波孔深度小于0.5mm,表面涂層分布均勻,波峰與波谷之間的距離較小。

    針孔或點蝕:氫以氣泡的形式附著在陰極表面,以防止金屬沉積在這些區域。它只能沉積在氣泡周圍。如果在整個電鍍過程中,氫氣泡停留在陰極表面,則鍍層會出現孔洞或間隙;如果在電鍍過程中氫氣氣泡沒有牢固粘附,而是間歇性地逸出并粘附,這些零件就會形成淺坑或斑點,在電鍍行業中通常稱為針孔或點蝕。

    泡沫:電鍍后,當周圍介質溫度升高時,聚集在母材中的吸附氫會膨脹,使鍍層產生小泡沫,嚴重影響鍍層質量。這種現象在鋅、鎘、鉛等金屬中尤為明顯。

    覆蓋能力:覆蓋能力(或稱深鍍能力)也是鍍液的一項重要性能指標,是指在一定的電解條件下,將沉積金屬完全覆蓋在陰極部件表面的能力,即在特定條件下,將金屬鍍層沉積在槽內或深孔內的能力,是指鍍層在部件上分布的完整程度。

    氫脆:陰極氫離子還原后,部分氫逸出形成氫,部分原子氫滲透到基體金屬(特別是高強度金屬材料)和鍍層中,使基體金屬和鍍層的韌性降低而變脆。這種現象被稱為“氫脆”。


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